EUV光刻电磁散射高效模拟：背景场分解与Green's函数预处理的伪谱频域方法深度解析
本文深入探讨了EUV光刻中电磁散射问题的高效数值模拟新范式，结合伪谱频域方法、背景场分解及Green's函数预处理技术，显著加速了复杂多层掩模结构的仿真。这一突破性的框架为半导体制造的精细化设计和优化提供了前所未有的计算效率和精度。
本文深入探讨了EUV光刻中电磁散射问题的高效数值模拟新范式，结合伪谱频域方法、背景场分解及Green's函数预处理技术，显著加速了复杂多层掩模结构的仿真。这一突破性的框架为半导体制造的精细化设计和优化提供了前所未有的计算效率和精度。
本文深入探讨了一种统一的软件辅助方法，用于离散偶极近似（DDA）求解器的浮点一致性交叉验证和公平基准测试，并详细分析了CPU和GPU性能、内存利用率及精度对计算光散射研究的影响。